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ETSA-300气浮平台

ETSA-300气浮平台

ETSA-300气浮平台

说明:

1.气浮平台克服了传统机械定位台行程短,响应滞后大,摩擦阻力等不足,实现了长行程高精度与高速定位功能,在半导体光刻设备,精密测量和生物医学等领域中具有不可替代的作用。

2.重复定位精度高,俯仰偏摆角度小,运动台与导轨使用同种材料,在温度变化较大的工况下不会出现气 浮台常见的“抱死”现象。

特点:

通过静压气浮隔离机械运动副之间的接触,提高平台机构运动精度、表面平滑、微小偏差(俯仰, 偏摆等)、性能稳定、没有机械损耗、“零”摩擦可使其进入纳米级应用。

使用场所:

精密加工、精密测量、微电子制造业、光刻机平台、半导体加工业、扫描。


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ETSA-300气浮平台

说明:

1.气浮平台克服了传统机械定位台行程短,响应滞后大,摩擦阻力等不足,实现了长行程高精度与高速定位功能,在半导体光刻设备,精密测量和生物医学等领域中具有不可替代的作用。

2.重复定位精度高,俯仰偏摆角度小,运动台与导轨使用同种材料,在温度变化较大的工况下不会出现气 浮台常见的“抱死”现象。

特点:

通过静压气浮隔离机械运动副之间的接触,提高平台机构运动精度、表面平滑、微小偏差(俯仰, 偏摆等)、性能稳定、没有机械损耗、“零”摩擦可使其进入纳米级应用。

使用场所:

精密加工、精密测量、微电子制造业、光刻机平台、半导体加工业、扫描。


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